掩模對準系統:
 
一款具有高解析度的通用型接近/接觸式手動掩模對準系統和紫外曝光系統的結合,非常適用于研發中心, 試驗性生產實驗室以及具有廣泛的可互換的生產應用領域,該系統提供可升級系統組態,其中包括可選擇的紫外燈源系統,不同的紫外光譜,電源供應系統,掩膜固定支架,矽片/基片固定支架,光學可視對準系統。 同時在長期的使用中發現該系統具有非常高的可靠性能,多功能的用途以及簡易方便的操作方法,深受使用者喜愛。 ABM掩膜對準曝光系統是一款非常強大的光刻設備,它綜合以上提到的各項實用可靠的功能以及較低的營運成本,因此在高性價比的設備選擇中,ABM掩膜對準曝光系統是最好的選擇。
   
規格說明:  
  • 桌上型掩膜對準系統
  • 精確的對準系統適用于單晶片,碎片以及6英寸的矽片或者同尺寸的基片。 同時可以根據客戶需求,提供8英寸尺寸規格的選項。
  • 真空式載片系統(帶有預對準的對位片)
  • 曝光模式:軟接觸,硬接觸,真空接觸以及間隙式曝光
  • X,Y軸千分尺的的精度為0.5微米,θ角千分尺的精度為0.0001度,同時提供微分千分尺的選項。
  • 載片台的移動距離,X/Y方向可以達到±6 mm,θ角可以達到±5°
  • 帶有壓力感應系統的Z軸千分尺,同時可以提供自動找水準功能,確保基片和掩範本之間的水準。
  • 可更換的正面式或者背面式真空式掩範本支架,尺寸可以從2英寸至7英寸之間進行選擇,同時提供9英寸尺寸規格的選項。
  • 掩範本固定支架的可旋轉角度為+/-45 degrees。
  • 在掩範本和基片之間提供氮氣淨化功能。
  • 提供6英寸或者8英寸(可選項)範圍大小的整直紫外光束,提供波長範圍為NUV(365-436nm)或者DUV(220-280nm)(可選項)或者MUV (280-310 nm) (可選項)。
  • 提供高精度的散熱絕緣石英反射鏡組
  • 提供標準排放量的散熱風扇以及過熱保護裝置
  • 提供防反射的鷹眼鏡組,同時該鏡組可以有效減低光衍射
  • 全幅准直校正光束分光鏡:半形<1.85 degrees
  • 提供雙波長光強感應器以及偵測回饋系統
  • 汞燈以及防爆裝置
  • 溫度及氣流量感應安全保護(超限停止)裝置
  • 可更換濾波片之插槽裝置
  • 曝光時間調節範圍:0.1秒到999.9秒
  • 提供可調節雙通道350瓦琤強/琤\率電源供應器,可提供的選項為500瓦,1000瓦,2000瓦的DUV和NUV電源供應器
  • 功率超載蜂鳴警告保護
  • 單視場/分離視場的雙CCD照相對準系統,可連續調節放大倍率範圍為90-600倍,可以提供選項為180-1200倍的連續調節放大倍率
  • 顯微鏡系統擁有記憶對準功能(能夠重複到上次的對準位置)
  • 帶有氣動鎖定X,Y軸運動的顯微系統
  • 電子/氣動操控面板,半自動設備提供PLC觸控面板控制
  • 提供全方位的安全互鎖系統以及緊急制動系統
  • 系統升級及相關選項:
    • 高精度對準系統,可以提供升級至最大尺寸為8英寸的基片。
    • 針對波長範圍為DUV (220-280 nm),MUV (280-310 nm)以及NUV (365-450 nm)的紫外光線,可提供8英寸圓形或者方形的紫外曝光系統
    • 半自動系統裝置可以提供PLC觸摸面板操控系統。
    • 可以提供微分千分尺,X/Y軸的精度為0.1微米,θ角的精度為0.00001度。
    • 可以提供使用操縱杆方式進行對X/Y/θ的移動控制。
    • 可以提供環形照明系統
    • 可以提供棱鏡系統,可以縮短分離視場系統的最小間距為10mm。
    • 可以提供最高放大倍率為2000倍。
    • 可以提供電動式縮放以及對準方式(針對于CCD照相對準系統裝置)。
    • 可以提供背面紅外對準系統。
    • 可以提供背面可視對準系統。
    • 可以提供大間隙功能對準系統。
    • 可以提供紫外納米印刷光刻系統。
    • 提供基片夾具,可以在對準系統上對準之後轉移至鍵合設備上進行對準鍵合功能。
    • G,H,I線波長濾光器
    • 中性密度濾光器
    • 光強測試儀,可以提供單波長或者雙波長探頭
    • 標準型防震桌
    • 無油真空泵和空壓機
    • 遠端排風系統
    • UV-400護目鏡
  回 到 主 頁