ENG  中文(简体)  中文(繁體)
 
 
掩模对准系统:
      一款具有高分辨率的通用型接近/接触式手动掩模对准系统和紫外曝光系统的结合,非常适用于研发中心,试验性生产实验室以及具有广泛的可互换的生产应用领域,该系统提供可升级系统配置,其中包括可选择的紫外灯源系统,不同的紫外光谱,电源供应系统,掩膜固定支架,硅片/基片固定支架,光学可视对准系统。同时在长期的使用中发现该系统具有非常高的可靠性能,多功能的用途以及简易方便的操作方法,深受用户喜爱。ABM掩膜对准曝光系统是一款非常强大的光刻设备,它综合以上提到的各项实用可靠的功能以及较低的营运成本,因此在高性价比的设备选择中,ABM掩膜对准曝光系统是最好的选择。

掩模对准系统:
  • 桌上型掩膜对准系统
  • 精确的对准系统适用于单芯片,碎片以及6英寸的硅片或者同尺寸的基片。同时可以根据客户需求,提供8英寸尺寸规格的选项。
  • 真空式载片系统(带有预对准的对位片)
  • 曝光模式:软接触,硬接触,真空接触以及间隙式曝光
  • X,Y轴千分尺的的精度为0.5微米,θ角千分尺的精度为0.0001度,同时提供微分千分尺的选项。
  • 载片台的移动距离,X/Y方向可以达到±6 mm,θ角可以达到±5°
  • 带有压力感应系统的Z轴千分尺,同时可以提供自动找水平功能,确保基片和掩模板之间的水平。
  • 可更换的正面式或者背面式真空式掩模板支架,尺寸可以从2英寸至7英寸之间进行选择,同时提供9英寸尺寸规格的选项。
  • 掩模板固定支架的可旋转角度为+/-45 degrees。
  • 在掩模板和基片之间提供氮气净化功能。
  • 提供6英寸或者8英寸(可选项)范围大小的整直紫外光束,提供波长范围为NUV(365-436nm)或者DUV(220-280nm)(可选项)或者MUV (280-310 nm)(可选项)。
  • 提供高精度的散热绝缘石英反射镜组
  • 提供标准排放量的散热风扇以及过热保护装置
  • 提供防反射的鹰眼镜组,同时该镜组可以有效减低光衍射
  • 全幅准直校正光束分光镜:半角<1.85 degrees
  • 提供双波长光强感应器以及侦测反馈系统
  • 汞灯以及防爆装置
  • 温度及气流量感应安全保护(超限停止)装置
  • 可更换滤波片之插槽装置
  • 曝光时间调节范围:0.1 秒到999.9 秒
  • 提供可调节双通道350瓦恒光强/恒功率电源供应器,可提供的选项为500瓦,1000瓦,2000瓦的DUV和NUV电源供应器
  • 功率过载蜂鸣警告保护
  • 单视场/分离视场的双CCD 照相对准系统,可连续调节放大倍率范围为90-600 倍,可以提供选项为180-1200倍的连续调节放大倍率
  • 显微镜系统拥有记忆对准功能(能够重复到上次的对准位置)
  • 带有气动锁定X,Y轴运动的显微系统
  • 电子/气动操控面板,半自动设备提供PLC触控面板控制
  • 提供全方位的安全互锁系统以及紧急制动系统
  • 系统升级及相关选项:
    • 高精度对准系统,可以提供升级至最大尺寸为8英寸的基片。
    • 针对波长范围为DUV (220-280 nm),MUV (280-310 nm)以及NUV (365-450 nm)的紫外光线,可提供8英寸圆形或者方形的紫外曝光系统
    • 半自动系统设备可以提供PLC触摸面板操控系统。
    • 可以提供微分千分尺,X/Y轴的精度为0.1微米,θ角的精度为0.00001度。
    • 可以提供使用操纵杆方式进行对X/Y/θ的移动控制。
    • 可以提供环形照明系统
    • 可以提供棱镜系统,可以缩短分离视场系统的最小间距为10mm。
    • 可以提供最高放大倍率为2000倍。
    • 可以提供电动式缩放以及对准方式(针对于CCD照相对准系统装置)。
    • 可以提供背面红外对准系统。
    • 可以提供背面可视对准系统。
    • 可以提供大间隙功能对准系统。
    • 可以提供紫外纳米印刷光刻系统。
    • 提供基片夹具,可以在对准系统上对准之后转移至键合设备上进行对准键合功能。
    • G,H,I线波长滤光器
    • 中性密度滤光器
    • 光强测试仪,可以提供单波长或者双波长探头
    • 标准型防震桌
    • 无油真空泵和空压机
    • 远程排风系统
    • UV-400护目镜