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美国ABM公司专业的技术团队可为用户详尽提供有关:

光刻(Photolithographic)
涂胶,烤胶,光刻后显影
晶片清洗(Coating, Baking, Development, Wafer Cleaning)
临时键合,解键合(Temporary Bonding, Debonding)
磁控溅射(Sputtering)蒸镀(Evaporation)
等整线工艺和相关设备的技术支持!


     SEMICON CHINA 2017      SEMICON CHINA 2018

关于我们:
业界知名的曝光机制造商ABM, Inc. 为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,被广泛的应用于半导体光刻工艺制程,光波导,光栅,微机电MEMS,LD,二极管芯片,发光二极体(LED)芯片制造,显示面板LCD,光电器件,奈米压印以及电子封装等诸多领域。ABM曝光机在全球知名的大学,研发中心,产学研结合单位以及大批量生产之工厂均拥有广泛应用的客户群体。

美国ABM, Inc. 成立于1986年,总部位于加州矽谷,至今服务于半导体业内超过25年。 ABM, Inc,除美国总公司外,旗下全球分支之ABM, Inc. Asia Pacific Ltd.更在香港设立直接销售及工艺研发中心并配有class100之超净实验室,旨在更好地直接对话并提供更专业的售前/后技术服务于中国大陆地区的广大客户。