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MEMS微机电厚胶工艺应用
截止到2012年1月,ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机,50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国航天局NASA和INTEL、哈佛大学、LG、美国海军实验室、菲利普、惠普、3M等,ABM在中国各地也拥有不同领域的客户,包括众多的工厂、知名大学和研究所等。

厚胶光刻工艺
  应用实例1:ABM光刻机与CEE涂胶设备可满足客户对厚胶光刻的需要
  Scanning Electron Micrographs 电子显微镜图像
  Feature Sizes图像尺寸: 25 x 25 微米方形


  应用实例2:ABM光刻机与CEE涂胶设备可满足客户对厚胶光刻的需要
  Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 10 microns square Photoresist
  采用AZ PLP 50XT 光刻胶
  使用Su-8胶曝光的,特征尺寸10x10微米,光刻胶高度为50um图形(深宽比5:1)


  应用实例3:ABM光刻机与CEE涂胶设备可满足客户对厚胶光刻的需要
  Scanning Electron Micrograph Feature Sizes: 30 microns square SU-8 Height: 300 microns
  使用Su-8胶曝光的,特征尺寸30x30微米,高度为300um图形(深宽比10:1)


      ABM亚太总部拥有自己的光刻工艺实验室,可为我们的客户提供厚胶光刻及其他光刻工艺技术服务。以满足客户的工艺的要求。